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SPIE Photomask Technology + EUV Lithography 2018

Sep 17 2018 - Sep 20 2018 Monterey Conference Center and Monterey Marriott Monterey, California 106 https://spie.org/conferences-and-exhibitions/photomask-technology--extreme-ultraviolet-lithography?SSO=1

MSP, eine Abteilung von TSI, bietet Dienstleistungen und Ausrüstung für optische Lichtschranken zur Entwicklung, Kalibrierung und Qualifizierung von Retikelprüfsystemen an. Mit Geräten zur Abscheidung von Partikelgrößenstandards und Materialstandards auf strukturierten oder nicht strukturierten EUVs von nur 10 nm und bis zu 20 um können PSL-Kugeln in Spotmustern von 10 bis 25 mm Durchmesser abgeschieden werden. MSP Process Particles Suspensions beinhalten 13 Materialien zur Abscheidung: Si, Si3N4, Al2O3, Ti und W.